Wissenschaftliche*r Mitarbeiter*in (m/w/d) auf dem Gebiet Magnetron-Sputter-Epitaxie

Wir sind eine Universität mit Schwerpunkten in den Ingenieur- und Naturwissenschaften sowie Wirtschaftswissenschaft, Humanwissenschaften und Medizin. 13.000 Studierenden aus dem In- und Ausland sowie ca. 3.000 Beschäftigten bieten wir hervorragende Studien- und Arbeitsbedingungen.

Im Rahmen eines DFG-geförderten Projektes des SPP 2312 sollen neuartige einkristalline Übergangsmetallnitrid Schichten sowie deren Legierungen mit Gruppe-III-Nitrid Schichten, mittels Magnetronsputtern hergestellt und charakterisiert werden. Die Arbeiten erfolgen in enger Abstimmung mit einer anderen Arbeitsgruppe im Haus, die an diesen Schichten Untersuchungen mittels optischer Methoden vornehmen. Wir suchen für die Restlaufzeit des Projektes eine/n motivierte/n wissenschaftliche/n Mitarbeiter/in (m/w/d) aus dem Bereich Physik oder Materialwissenschaften mit vorliegender Erfahrung im Magnetronsputtern - idealerweise von epitaktischen Schichten - sowie deren Charakterisierung. Die Stelle ist in der Abteilung Halbleiterepitaxie (Prof. Strittmatter) angesiedelt, die über mehrere Epitaxieanlagen (MOVPE, Sputterepitaxie), zahlreiche Charakterisierungsmethoden und eine Prozesslinie für die Bauelementherstellung verfügt.

Ihre Aufgaben:

• Herstellung epitaktischer Metall-Stickstoffschichten auf einkristallinen Substraten mittels Magnetronsputtern
• Kristallographische und elektrische Charakterisierung der Schichten
  
• Vorbereitung der Veröffentlichung der Ergebnisse
• Wissenschaftliche Qualifizierung im Rahmen einer Promotion
  

Ihr Profil:

• Abgeschlossenes Studium der Physik, Werkstoffwissenschaften oder verwandter Fachgebiete
• Erfahrung mit Sputterprozessen und der Anlagentechnik
• Kenntnis der gängigen Charakterisierungsmethoden (Röntgendiffraktometrie, AFM, Hall-Effekt, PL)